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空気清浄
43巻 1号(2005)
空気清浄 43巻 1号
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発行元
日本空気清浄協会
ISSN
0023-5032
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巻頭言 「良い空気」とは
池田耕一
国立保健医療科学院建築衛生部部長
空気清浄
43 (1)
1-2, 2005.
アブストラクト: 従量制は110円(税込)、基本料金制は基本料金に含まれます。
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特集 エアロゾル電気移動度分級装置 (DMA) と関連技術の最近の進歩 特集にあたって
明星敏彦
独立行政法人産業医学総合研究所
空気清浄
43 (1)
3-3, 2005.
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DMAによる分級・計測の向上のための軟X線荷電器とファラデーカップ電流計の適用
島田学, 奥山喜久夫, 李惠文
広島大学大学院工学研究科
空気清浄
43 (1)
4-11, 2005.
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DMAを用いたナノ粒子の計測
武内一夫*, 今中雅士*, 薮元淳輔**
*独立行政法人 理化学研究所, **"理研ベンチャー" ワイコフ科学(株)
空気清浄
43 (1)
12-18, 2005.
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大粒子用長尺DMAの開発と分級特性
明星敏彦
独立行政法人産業医学総合研究所
空気清浄
43 (1)
19-23, 2005.
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エアロゾル粒子の質量分布測定と応用
榎原研正
産業技術総合研究所
空気清浄
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24-30, 2005.
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DMA原理を応用した高速測定 - 新装置, EEPS (Engine Exhaust Particle Sizer) -
高橋順子, 濱尚矢, 船戸浩二
東京ダイレック株式会社
空気清浄
43 (1)
31-36, 2005.
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通風抵抗体を用いた天井レターン方式クリーンルーム
横田繁夫, 本間健, 神谷松雄, 平田順太, 鈴木道夫
日立プラント建設株式会社
空気清浄
43 (1)
37-43, 2005.
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「半導体LSIクリーン化の現状と将来」概要
白水好美
NECエレクトロニクス株式会社
空気清浄
43 (1)
44-46, 2005.
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半導体ロードマップ委員会 (STRJ / ITRS) 紹介
白水好美
NECエレクトロニクス株式会社
空気清浄
43 (1)
47-50, 2005.
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最新リソグラフィ技術
藤井清
株式会社半導体先端テクノロジーズ
空気清浄
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51-57, 2005.
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High-kゲート絶縁膜技術の現状と将来
北島洋
NECエレクトロニクス株式会社
空気清浄
43 (1)
58-62, 2005.
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Cu配線技術紹介
筑根敦弘
株式会社先端SoC基盤技術開発 (現 富士通株式会社)
空気清浄
43 (1)
63-68, 2005.
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(第4回) キャビネットの性能検査 [密閉度]
小野恵一
株式会社日立産機システム
空気清浄
43 (1)
69-72, 2005.
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0.1μmクラス1
秋山正
元株式会社ダン科学
空気清浄
43 (1)
73-73, 2005.
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バイオエアロゾルヴィジュアル (シリーズ5) レジオネラ肺炎菌 (シリーズ6) セラチア菌
狩野文雄
東京都健康安全研究センター
空気清浄
43 (1)
74-74, 2005.
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